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    • PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統(tǒng)是一款低成本,適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備,整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應腔室,真空系統(tǒng),RF射頻系統(tǒng),反應氣路系統(tǒng),電器控制,軟件程序等幾個子系統(tǒng)。

      訪問次數(shù):445
      產(chǎn)品價格:499999
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      更新日期:2025-04-08
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